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2017年半導(dǎo)體市場資本支出再創(chuàng)歷史新高,同比增2成

IC Insights預(yù)測,繼今年上半年半導(dǎo)體資本支出大幅增長后,全年半導(dǎo)體資本支出預(yù)期上調(diào)至809億美元,比去年同期增長20%,且高于預(yù)期資本支出53億美元,堪稱歷史最高。


如圖所示,2017年為資本支出貢獻(xiàn)最大的為晶圓代工廠(28%)和閃存(24%)。隨著2016年第三季度以來DRAM價(jià)格的飆升,DRAM制造商將再次加大在這一領(lǐng)域的支出。預(yù)計(jì)到2017年,DRAM / SRAM的增長將達(dá)到53%,有望成為今年資本支出增長的最大百分比。經(jīng)分析,大部分資本支出仍在升級技術(shù)方面,但DRAM生產(chǎn)商SK Hynix分析稱,不單單投入在技術(shù)升級,更花費(fèi)在產(chǎn)能提高上。

即使是今年支出激增,2017年閃存(190億美元)的資本支出仍將遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于DRAM / SRAM(130億美元)。IC Insights認(rèn)為,2017年閃存的所有支出都將用于3D NAND工藝技術(shù)改良,包括三星電子在韓國平澤掀起的3D NAND熱浪。

總體而言,預(yù)計(jì)在2016年強(qiáng)勁增長23%之后,閃存的資本支出將在2017年實(shí)現(xiàn)33%的增長。然而,歷史先例表明,資本支出的激增通常會導(dǎo)致產(chǎn)能過剩和定價(jià)疲軟。在未來幾年里,與三星、海力士、微軟、英特爾、東芝、西部數(shù)據(jù)、SanDisk和武漢新芯/長江存儲技術(shù)有關(guān)的3D NAND閃存容量將有大幅度提升,而且新的中國生產(chǎn)商可能會進(jìn)入市場,IC Insights認(rèn)為未來隨著3D NAND 閃存市場需求的增長加大,也將會面臨更大風(fēng)險(xiǎn)

2017-09-04  來源:華強(qiáng)電子網(wǎng)
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