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DARPA研究出黑科技,芯片晶體管終于可以繼續(xù)縮小了

為了解決3D芯片堆疊時的液體冷卻問題,美國國防部先進研究計劃署(DARPA)與IBM、喬治亞理工學(xué)院(Georgia Institute of Technology;Georgia Tech)合作展開芯片內(nèi)/芯片間(Intrachip/Interchip)增強冷卻(ICECool)計劃,如今已經(jīng)開發(fā)出一種使用絕緣介電質(zhì)制冷劑(以取代水)的途徑。
 
負責打造該原型機的研究人員說,這種方法能將制冷劑泵送至整個微流體芯片通道,從而降低了冷卻超級電腦CPU的成本,并經(jīng)由在每個磊晶之間安全地泵送制冷劑,即使是最厚的3D芯片堆疊內(nèi)部都能加以冷卻。
 
DARPA的ICECool計劃采用微流體冷卻基板、芯片或封裝的內(nèi)部,期望以「嵌入式」熱管理方式克服遠端冷卻的局限(來源:DARPA
 
IBM的華生研究中心(Thomas J. Watson Research Center)首席研究員Tim Chainer說:「我們的原型是一款8核心的Power7超級電腦,背面的微流體通道蝕刻用于散熱,將它與氣冷式Power7超級電腦放在一起比較。所取得的進展降低了25℃的接面溫度[44℉]、功耗更低7%,其冷卻架構(gòu)也更簡潔。我們還打算使3D芯片可堆疊至任何高度,從而克服摩爾定律(Moore's Law)的微縮限制?!笴hainer的團隊與蘇黎世的IBM Research研究人員共同合作,同時也獲得了Georgia Tech研究人員的支持。
 
傳統(tǒng)的空調(diào)冷卻方式使用冷空氣和散熱片(頂部),經(jīng)證實不如溫水冷卻(中央),而DARPA ICECool計劃開發(fā)的技術(shù)承諾可藉由使用介電質(zhì)蒸氣(底部),進一步縮減尺寸與成本(來源:IBM)
 
Chainer回顧了多核心架構(gòu)的轉(zhuǎn)變?nèi)绾慰朔藥啄昵疤幚砥鞯?GHz速度限制。如今,接面溫度可以降低44℉,讓工程師能再次啟動時脈。Chainer說,絕緣介電質(zhì)冷卻的3D芯片堆疊同樣可以克服摩爾定律的微縮限制。
 
冷卻具有絕緣介電質(zhì)流體的3D芯片堆疊時,該絕緣介電質(zhì)流體沸騰成蒸汽,并從間隔100微米距離的50微米堆疊中提取熱,使裸金屬通孔可在芯片之間運行,如同水冷卻劑一樣形成互連而不至于造成短路(來源:IBM)
 
他說:「我們正生活在電腦創(chuàng)新最激動人心的時刻,這是由于工程師的聰明才智克服了曾經(jīng)被認為無法逾越的摩爾定律限制?!?br />  

藉由水冷系統(tǒng),IBM得以讓資料中心無需再使用空調(diào)。但為了ICECool計劃而開發(fā)的絕緣介電質(zhì)蒸汽系統(tǒng),也不需要使用冷卻器(右上)和冷卻塔(左上)(來源:IBM)
 
在決定采用Honeywell的Solstice Ze R-1234ze之前,IBM評估過十幾種制冷劑,因為制冷劑在室溫下為液體,但在一般的芯片溫度(高達85℃或185℉)時蒸發(fā),并在蒸發(fā)過程中提取熱量。由于制冷劑在室溫下會返回液態(tài),所以不需要像傳統(tǒng)冰箱使用的壓縮機。相反地,Solstice Ze R-1234ze只需要通過銅管道線圈(類似于酒精蒸餾器或汽車散熱管)的引導(dǎo),就能在穿過芯片或從芯片之間返回液體形式。
 
Honeywell制冷劑也是一種介電質(zhì),因此可以在芯片之間泵送,而不需要金屬元件的絕緣,包括矽穿孔(TSV)。微流體通道可以透過單個芯片執(zhí)行,涵蓋全部的3D堆疊芯片。3D芯片堆疊中非腐蝕性制冷劑的最佳使用是將CMOS芯片削薄到50微米厚,并在其間留下100微米的間隙。圍繞邊緣的中空矩形間隔物包含堆疊中的制冷劑,每一側(cè)的接頭在一側(cè)泵入液體,并在另一側(cè)移除其蒸汽。接著,蒸汽通過蒸餾器,讓制冷劑返回液體形式以便泵送回芯片堆疊中。
 
Chainer說:「我們期望Honeywell、3M等綠色制冷劑制造商能研究和生產(chǎn)適用于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的客制化配方,但是,Solstice R-1234ze是目前所能找到的最佳產(chǎn)品?!闺m然IBM和Georgia Tech著重于ICECool計劃下的商用高性能電腦上,但Raytheon和波音(Boeing)等公司生產(chǎn)的解決方案可用于防御應(yīng)用中冷卻雷達裝置和其他超高頻設(shè)備。DARPA的計劃在大約四年內(nèi)完成了目標。如今,IBM、Raytheon和波音正從各自的研究實驗室中,將技術(shù)傳遞到制造業(yè)。這些技術(shù)預(yù)計最快將在2018年之前出現(xiàn)在商用產(chǎn)品和軍事設(shè)備中。

2017-09-05  來源:半導(dǎo)體行業(yè)觀察

文章關(guān)鍵詞: 韋爾半導(dǎo)體 香港華清電子(集團)有限公司  芯片晶體管
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